第(2/3)页 光刻机的原理很简单，相当于一个高精度的照相机，把设计好的电路投影到硅片上，但是，具体造出来，就很难了。 国内的起步并不晚，在66年，109厂与华亭光学仪器厂协作，研制成功我国第一台65型接触式光刻机，由华亭无线电专用设备厂进行生产并向全国推广。1978年，中科院半导体所开始研制jk-1型半自动接近式光刻机。 在六五期间，45所进行了bg-101型dsw光刻机的研究工作，并于1985年成功研制出bg-101分步光刻机，在当年年底通过了部级技术鉴定，该机的主要性能指标接近或达到美国gca公司4800dsw系统的水平。 但是，由于这方面要投入大笔的资金，国内正在搞经济建设，所以，在光刻机的研发方面就放弃了，国内原本和国外只有五到十年的差距，结果到了后世，差距扩大到了二十年以上。 说起光刻机巨头来，就得提到阿斯麦，这个代号为asml的光刻机公司，属于全球最先进的，每年生产出来的光刻机供不应求，台积电和三星这些公司为了这些光刻机打破了头，中芯国际更是等了数年也没有拿到货。 但是实际上，在现在这个时期，阿斯麦还是一个小公司，挤在菲利普总部旁边的板房里办公，要多惨有多惨，所以，现在起步的话，还不算晚！ 要说这个时代的巨头，那就是大名鼎鼎的尼康了。 原因很简单，因为光刻机的本质就是个投影机和照相机，用光来作为刀子，把设计好的电路投射到硅片上，尼康原本就是制造照相机的，属于专业对口，这个年代的尼康，就和后世的阿斯麦一样，手头握着大批的订单，其他工厂的采购人员，天天堵在尼康的大门口等着交货。 不过，九十年代最大的光刻机巨头尼康，衰落也是很快的，这其中有政治上的纠纷，也有技术路线的选择错误。 在芯片领域里，有一个著名的摩尔定律，芯片的性能每隔18到24个月就得翻一倍，这样，芯片的制造技术也得不断地前进才行。 在现在这个时代，其实光刻机的技术还不是很难，毕竟阿斯麦的起家的时候，不过只有三十几个人的团队，甚至就连英特尔等不及尼康的光刻机，自己也可以做几台应急，不过就是把大批的零件买回来，拼拼凑凑，造个特殊的照相机。 尼康的牛逼之处，就是人家是产业链集合，所有的零件都能自己搞定。 但是，在进入九十年代，光刻机的生产商碰到了一个技术关卡：光刻机使用的光源是193纳米的，它就限制了光刻机的继续升级！ 想要雕刻东西越精细，刀子就得越锋利，193纳米的激光已经不够细了，接下来该怎么办呢？….尼康作为科技巨头，想的办法也很简单，直接换用157纳米的f2激光，这样就能解决问题了。 而为了对抗尼康成立的euvllc联盟则押注更激进的极紫外技术，将光源切换成十几纳米的极紫外光，这样不仅仅能解决现有的问题，还能一直用到以后，刻十纳米以下的芯片制程都没问题。 但是，这两种技术都不容易，都面临着技术难关，这就是九十年代最出名的193纳米关卡！ 凡是遇到难关的时候，总是有天才出现的，现在也不例外，一个名叫林本坚的鬼才工程师出现了。 当光线透过水之后，频率不变，但是波长会发生变化，这就是水的折射率，所以，只要在光刻机的光源和硅片之间加一层水，让原本的193纳米的激光发生一次折射，不就能大大地降低了吗？ 简单计算就能知道，波长会降低到132纳米！ 这样，不仅仅能降低了光刻机的波长，刻蚀更加精密的电路，而且，对机器的改动还最小！ 以前的就叫做干刻法，现在可以叫做湿刻法了！ 林本坚提出来了这项技术，兴致勃勃地跑出去推销，但是，全部都吃了闭门羹！ 美国、德国、日本，一个个的光刻机巨头，面对着这个说法都是嗤之以鼻：在精密的机器中加入水，成为一个浸润环境，就不怕水漏了吗？短期来看，这个办法可能会成功，但是长期来看，根本就是在走弯路！ 尤其是巨头尼康，决定在157纳米的光源上研究，根本就不搭理林本坚这种歪门邪道。 就像是数码相机一样，当年柯达首先研制出来数码相机，但是害怕因此威胁到胶片的生意，所以他们采用的办法就是将数码相机藏起来，不让别人知道！ 尼康在157纳米的道路上走到黑，而此时名不经传的阿斯麦却注意到了这个弯道超车的机会，对他们来说，这是一个迅速追赶世界先进水平的机会！ 所以，他们接受了林本坚的技术，研发起来了浸润式光刻机，不过，这已经是03年的事情了，仅仅一年的时间，也就是04年，他们就制造出来了样机，然后迅速拿下了ibm和台积电等等大客户的订单。 尼康仅仅晚了不到一年的时间，把自己的是157纳米激光的干式光刻机技术弄成功了，但是，客户却不要了！一代巨头尼康就这样衰落了，而阿斯麦从此成为了光刻机行业的老大。 这段历史，对于秦涛这个造船工程师，也是有所耳闻的，所以现在，他如果想要弯道超车的话，那当然就是选择对技术路线了！ 只有三十多人的阿斯麦都能做到，拥有雄厚财力的明州集团，难道还做不到这种事情吗？ 什么技术封锁，狗屁！到以后，明州集团的光刻机会成为阿斯麦一样的存在，全世界的巨头都得上赶着过来求购！ 第(2/3)页